1μm Metalen Filtermedia Voor Halfgeleiderprocesgaszuivering --- Wafelproductie Met AMC-controle

Productsoort: Ultrafijne korte vezels van roestvrij staal 316L

Fibre Diameter: 1um/1.5um/2um beschikbaar

Snijlengte: 80-100um

Chemische samenstelling van de grondstof ((Wt%))

In de productie van halfgeleiders is het essentieel om procesgassen van ultrahoge zuiverheid te behouden om defecten te voorkomen en hoge opbrengsten te garanderen.m metaalfiltermedia spelen een essentiële rol bij de gaszuivering door de verontreinigende deeltjes te verwijderen en tegelijkertijd bij te dragen aan de bestrijding van moleculaire verontreiniging in de lucht (AMC),die essentieel is voor de geavanceerde fabricage van wafers.

Belangrijkste kenmerken en voordelen

Filtratie met een hoog rendement (1μm retentie)

Het vangt submicron deeltjes op die fouten kunnen veroorzaken bij fotolithografie, etsen en afzettingsprocessen.

Vermindert het risico op verontreiniging van het oppervlak van de wafer, waardoor de opbrengst wordt verbeterd.

Chemisch inert en corrosiebestendig

Gemaakt van hoog zuiver materiaalmet een breedte van niet meer dan 50 mmvoor compatibiliteit met agressieve gassen (bv. HF, HCl, NH3).

Weerstand tegen uitgassing, waardoor verdere besmetting voorkomen wordt.

AMC-besturingscapaciteit

Sommige geavanceerde metaalfilters bevatten:oppervlaktebehandeling of coating(bijv. passivatie, elektropolishing) om de adsorptie/desorptie van vluchtige organische stoffen of zuren te minimaliseren.

Helpt elkaar te ontmoetenSEMI F21 AMC klasse 1de vereisten voor gevoelige processen zoals EUV-lithografie.

Hoogtemperatuur- en drukbestendigheid

Stabiele prestaties onder moeilijke omstandigheden (tot 500 °C of hoger voor sommige legeringen).

Geschikt voor:CVD, diffusie en ionenimplantatieGasleidingen.

Lange levensduur en schoonmaakbaarheid

Herbruikbaar na reiniging (ultrasone, chemische of thermische methoden), waardoor de eigendomskosten worden verlaagd.

Het ontwerp van een lage drukdruppel voor energiezuinige gasstroom.

Toepassingen in de vervaardiging van halfgeleiders

Ultra-hoge zuiverheid (UHP) gaslevering(N2, Ar, H2, O2, enz.)

Etsen en afzetten(CVD, PVD, ALD)

Fotolithografie(AMC-gevoelige EUV/DUV-omgevingen)

Bulkgas en filtering op het gebruikspunt (PoU)

Waarom metalen filters boven alternatieven?

Superieure duurzaamheidversus polymeren filters (die deeltjes kunnen afbreken en weggooien).

Geen vezelverliesin tegenstelling tot traditionele HEPA/ULPA filters.

Betere beperking van AMCin vergelijking met standaard deeltjesfilters.

Naleving en normen

SEMI F20(Deeltjescontrole)

SEMI F21(AMC-classificatie)

ISO 14644-1(Standaarden voor de schoonmaakruimte)

Conclusies

1 μm metaalfiltermediais een robuuste oplossing voor de zuivering van halfgeleidergassen, waarbijdeeltjesfiltratie, AMC-controle en chemische weerstandom te voldoen aan de strenge eisen van geavanceerde waferfabricage.